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  • 光化學離子除臭設備技術

    發布時間:2016-01-13 11:05:00 點擊:

    光化學離子除臭設備工藝是一種安全可靠的處理方法,除臭效率高。其原理為離子輻射直接活化臭氣分子發生分解的直接反應與輻射活化其它氣體分子再分解臭氣分子的間接反應相結合的一種高級氧化技術,綜合利用了高強輻照場離子對惡臭物質的破壞作用和氧對惡臭物質的氧化去除作用來去除惡臭氣體中硫化氫、氨、甲硫醇等VOC(揮發性有機物),並利用了水與氧在強輻照下分解所產生的活潑的次生氧化劑(OH自由基)來氧化分解惡臭氣體,改變臭氣分子的物化特性,最終汙染物質被活性氧分解成CO2、水和其他小分子化合物以達到除臭目的。高強輻射場和氧一道,存在一個協同作用,這種協同作用使該技術對惡臭去除臭的速率得到7至9個數量級的增加,即反應速度增加千萬至十億倍。整個除臭過程中受外界影響少,所有的產物對人體及空氣無影響,不產生二次汙染物。

    光化學離子降解硫化氫、氨、甲硫醇

    1、 硫化氫

    硫化氫的光化學反應如下

    O3+hv→O2+?O

    ?O+H2O→2?OH

    ?O+O2→O3

    H2S+O3+hv→S2-+H2O+O2

    2、 氨

    氨同樣可以在光化學離子有害氣體處理設備中得到較好的去除,發生初級光化學離子反應後的分子或者自由基吸收輻射後繼續發生化學變化,產生的產物能夠進一步參與次級化學過程。氨的光降解涉及以下反應:

    (1)觸發反應

    O3+hv→O2+?O

    O2+hv→?O +?O

    NH3+hv→?NH+2?H

    O3+OH-→?HO2 +?O2-

    ?HO2→?O2-+H+

    (2)傳遞過程

    ?O+H2O→2?OH

    ?O+O2→O3

    ?O2-+O3→?O3-+O2

    ?O3-+H+→??HO3

    2?NH→N2+2?H

    (3)終止反應

    2?NH+?O→N2+H2O

    3、 甲硫醇

    甲硫醇的光化學離子反應和硫化氫的類似,同樣是因為HS-結構型式的破壞而失去臭味。

    O3+hv→O2+?O

    ?O+H2O→2?OH

    ?O+O2→O3

    HS-+O3+hv→S2-+?OH +O2

    光化學離子設備技術特點

    1. 光化學技術是一種經濟有效的實用技術:通常處理的惡臭氣體具有量大、濃度低的特點,極適合光化學反應這一低耗高效的處理技術。

    2. 除臭設備反應速度快,除臭效果優良:輻照場和氧存在著一個協同作用,試驗表明這種協同作用使該技術對惡臭去除的速率得到7至9個數量級的增加,這樣設備的體積小,占地和空間小,尤其對於改造,增設的情況。

    3. 模塊化的產品構造,可以靈活搭配使用,適合臭氣源分塊、分期獨立處理。

    4. 設備運行穩定:設備內部無高溫高壓等特殊部件,耐腐蝕,運行安全穩定,開啟後無需特別的保養管理。

    5. 設備的維護工作量小:光/氧反應過程受外部環境影響甚小,除臭效果可以較持續穩定,管路維護工作簡單。

    6. 設備風阻小,僅有250Pa左右,運行費用低,操作簡單方便。

    7. 設備的核心部件--反射管采用頂級品質的進口光源,可穩定、高效的輸出反應所需的短波光子能量,使用壽命長。

    8. 設備可設定就地手動控製、PLC自動控製;設定設備的正常運行、經濟運行模式;提供遠程傳遞運行信息與故障等信號。